英文名稱 | phenol-4-sulfonic acid |
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中文名稱 | 電子級4-羥基苯磺酸 |
CAS號 | 98-67-9 |
產(chǎn)品編號 | XJ0252 |
分子式 | C6 H6 O4 S |
分子量 | 174.17 |
英文名稱 | phenol-4-sulfonic acid |
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中文名稱 | 電子級4-羥基苯磺酸 |
CAS號 | 98-67-9 |
產(chǎn)品編號 | XJ0252 |
分子式 | C6 H6 O4 S |
分子量 | 174.17 |
電子級4-羥基苯磺酸(4-Hydroxybenzenesulfonic Acid)是一種具有羥基和磺酸基團的芳香化合物,表現(xiàn)出優(yōu)異的酸性和水溶性。該產(chǎn)品以其高純度和穩(wěn)定性廣泛應(yīng)用于電子化學品制造,特別是在半導體、光刻膠和其他精密電子材料領(lǐng)域,作為催化劑、穩(wěn)定劑和功能性添加劑使用。
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【物理性質(zhì)】
基本信息
(1)化學式:C6H6O4S
(2)分子量:174.17 g/mol
外觀與純度
(1)外觀:白色至淺黃色粉末或結(jié)晶。
(2)純度:≥99.0%。
物理參數(shù)
(1)熔點:52 °C。
(2)溶解性:易溶于水,部分溶于醇類。
(3)酸性:強酸性,在水溶液中呈強電解質(zhì)特性。
儲存條件
(1)儲存在密閉容器中,避免高溫和潮濕環(huán)境。
(2)需遠離強氧化劑和堿性物質(zhì)。
【應(yīng)用領(lǐng)域】
電子化學品制造
(1)用作光刻膠合成中的催化劑,提高化學反應(yīng)的選擇性。
(2)在電子清洗劑中作為添加劑,增強清洗性能。
半導體加工
(1)用于蝕刻液的成分,提供穩(wěn)定的酸性環(huán)境,優(yōu)化蝕刻效果。
(2)作為特殊電子材料中的活性組分,支持高性能半導體工藝需求。
其他電子材料應(yīng)用
(1)作為染料中間體或電解質(zhì)添加劑,賦予材料優(yōu)異的化學穩(wěn)定性。
(2)在功能性涂層和薄膜制備中,用于提高材料的附著性和耐蝕性。
【總結(jié)】
電子級4-羥基苯磺酸以其高純度、穩(wěn)定性和優(yōu)良的酸性,在電子工業(yè)中扮演重要角色,是光刻、蝕刻和電子化學合成的理想助劑,為高精密度電子材料的研發(fā)和生產(chǎn)提供了可靠保障。