五氟乙烷磺酸三苯基硫鎓鹽是一種高純度的有機(jī)硫鎓鹽化合物，具有極佳的光化學(xué)性能，常用于電子工業(yè)和半導(dǎo)體加工中。作為一種光酸生成劑（PAG），該化合物在光刻膠和抗蝕劑配方中表現(xiàn)出優(yōu)異的感光性能，尤其在深紫外（DUV）和極紫外（EUV）光刻技術(shù)中應(yīng)用廣泛。其硫鎓離子結(jié)構(gòu)和五氟乙烷磺酸根配體提供了優(yōu)異的光酸生成效率和穩(wěn)定性，是先進(jìn)光刻膠配方中重要的成分。

如果需要了解更多產(chǎn)品信息請(qǐng)通過(guò)微信或QQ與我們?nèi)〉寐?lián)系，我們的團(tuán)隊(duì)將為您提供一對(duì)一的咨詢服務(wù)。

QQ：3956182849

微信：

[基本性質(zhì)]

1.基本性質(zhì)

分子式：C₂₀H₁₅F₅O₃S₂

分子量：462.04 g/mol

外觀：白色至淺黃色結(jié)晶粉末

2.溶解性

易溶于極性有機(jī)溶劑，如乙腈、丙酮和甲醇。

不溶于水，但能在某些有機(jī)溶劑中形成穩(wěn)定溶液。

3.熱穩(wěn)定性

具有較高的熱分解溫度，適用于高溫光刻和加工工藝。

存儲(chǔ)時(shí)需避光、密封，防止吸濕和分解。

[應(yīng)用領(lǐng)域]

1.光酸生成劑（PAG）

作為光刻膠的關(guān)鍵成分，能夠在曝光過(guò)程中生成強(qiáng)酸，促進(jìn)光刻膠的顯影反應(yīng)。

在深紫外（DUV）和極紫外（EUV）光刻工藝中表現(xiàn)出優(yōu)異的光酸生成效率，適用于先進(jìn)半導(dǎo)體器件的制造。

2.電子材料和抗蝕劑

用于抗蝕劑配方中，能夠提高抗蝕劑的感光性能和分辨率，改善圖形的保真度。

在高分辨率光刻中用于制造先進(jìn)的芯片和集成電路。

3.有機(jī)合成中間體

作為一種含硫化合物的中間體，可用于制備其他復(fù)雜的有機(jī)硫化物和光敏材料。其五氟乙烷磺酸鹽結(jié)構(gòu)能夠提供優(yōu)異的電化學(xué)穩(wěn)定性，適合高性能材料的開(kāi)發(fā)。

電子級(jí)五氟乙烷磺酸三苯基硫鎓鹽由于其高純度和優(yōu)異的光化學(xué)性能，已成為現(xiàn)代半導(dǎo)體光刻材料中不可或缺的重要成分