電子級(jí)三苯基锍,1-[(3-羥基三環(huán)[3.3.1.13,?]癸-1-基)甲基]1,1,2,2-四氟-1,4-丁二磺酸鹽是一種高性能光酸生成劑,專為先進(jìn)光刻工藝設(shè)計(jì)。其獨(dú)特的分子結(jié)構(gòu)結(jié)合了三苯基锍和多官能團(tuán)基團(tuán),具備優(yōu)異的光敏性、化學(xué)穩(wěn)定性以及在苛刻條件下的高效性能。該產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光刻膠開發(fā)以及其他高精度光電子工藝中,支持新一代芯片與微納器件的制造需求。
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【物理性質(zhì)】
基本性質(zhì)
(1)化學(xué)名稱:三苯基锍,1-[(3-羥基三環(huán)[3.3.1.13,?]癸-1-基)甲基]1,1,2,2-四氟-1,4-丁二磺酸鹽
(2)分子式:C39H36F4O7S3
(3)分子量:716.83 g/mol
外觀與溶解性
(1)外觀:白色或淺黃色粉末。
(2)溶解性:溶于極性有機(jī)溶劑,如二甲基亞砜(DMSO)、乙腈和甲醇。
熱穩(wěn)定性與純度
(1)熱穩(wěn)定性:熱分解溫度>200℃,適應(yīng)多種工藝條件。
(2)純度:≥99.9%,符合電子級(jí)材料的嚴(yán)格質(zhì)量要求。
【應(yīng)用領(lǐng)域】
光刻膠材料
(1)用作DUV和EUV光刻膠中的光酸生成劑,提高光刻分辨率和圖形保真度。
(2)優(yōu)化高端制程工藝,支持先進(jìn)芯片制造需求。
半導(dǎo)體制造
(1)應(yīng)用于晶圓加工中的光敏反應(yīng),助力實(shí)現(xiàn)高精度圖案轉(zhuǎn)移。
(2)支持5nm及以下節(jié)點(diǎn)技術(shù)工藝。
光電子與顯示技術(shù)
(1)在顯示面板制造中,用于提升圖形處理的精度與分辨率。
(2)適用于光電子器件制造,提高器件的可靠性和性能表現(xiàn)。